效果圖：

1. 首先 用PS 做個(gè)參考的MASK點(diǎn)。（AE下的）

2. 下面我們來做個(gè)圖形，大家可以隨意。 做AE的參考路徑，然后拷貝這個(gè)圖形，按Ctrl C。

3.建個(gè)層，然后把PS做的再復(fù)制到這個(gè)層上，發(fā)現(xiàn)MASK點(diǎn)，然后再復(fù)制這個(gè)MASK點(diǎn)到PS里。

4. 到PS里，以路徑粘貼下來。

5.然后再把這個(gè)途徑粘貼回AE下的POSITION下，這回再拷貝它，但是和上次的就不一樣了。然后再粘貼到AE的層下。
注意：A. 拷貝前要把MASK點(diǎn)刪掉；B. 然后在position項(xiàng)目下粘貼PS拷貝來的路徑。

6. 然后把POSITION這個(gè)變成表達(dá)式：

7. 然后把生成的關(guān)鍵楨，如圖所示：

8.這個(gè)命令意識(shí)是：把沒一楨的，都變成關(guān)鍵楨。目的是在particleIllusion好控制。然后選中POSITION，把所有的關(guān)鍵楨拷貝在建立的文本文件里。